製品選定をご參照ください。?選定資料?真空吸著搬送システム選定プログラム
真空パッド（ゴム）の劣化に対する注意が必要ですが、交換時(shí)期は使用條件に大きく影響されるため、交換時(shí)期を推定することは困難です。（お客様での実際の使用狀況から判斷してください。）真空パッドを使用していくと吸著面が磨耗し、外形が徐々に小さくなってきます。パッド徑が減少することによりリフト力も減少しますが、吸著は可能です。?ゴム材質(zhì)と特性
ZBシリーズを推奨します。ハンドラ、チップマウンタ等の高速吸著搬送用として①吸著速度の高速化(製品単體)②稼動(dòng)部に搭載するための小型軽量化をポイントに製品化しました。
真空ドレンセパレータ（ AMJ )のご使用をお?jiǎng)幛幛筏蓼埂?または、オールステンレス製の特注製品を用意しております。詳細(xì)は弊社へお問(wèn)合せください。AMJの詳細(xì)はこちら?AMJシリーズへ
液體のみの吸込は保証しておりません。ただ、クーラント回収を目的とした製品はあります。HEP500-04
圧縮空気の供給により、供給量以上の大流量バキューム及びブローが可能です。大流量空気圧ブロアで?吐出流量は供給空気量の4倍?吸込流量は供給空気量の3倍バキュームフロー（ZH□-□-X185）を検討願(yuàn)います。
IRVの品番末尾に-X3（めねじ配管仕様）かX28（めねじ配管回り止め）で用意しています。 詳細(xì)資料:IRV10詳細(xì)資料:IRV20
ゲージナットAssy、P601010-18を組み付けてRc1/8で対応可能です。
リード線の赤がCOM、白が破壊弁Bで黒が供給弁Aになります。極性はありませんので+COMでも－COMでも使用可能です。 リード線は下図のように接続されていますので、それぞれ電源側(cè)と接続してください。（ソレノイドバルブは無(wú)極性です）
下記の內(nèi)部回路と配線例を參照ください。詳細(xì)については取扱説明書(shū)を參照ください。取扱説明書(shū)の型式は、圧力センサはPSE54□を、真空用圧力スイッチはZSE10（F）を、省エネ機(jī)能付真空用圧力スイッチはZK2-ZSV□になります。 取扱説明書(shū)はこちら PSE54□ ZSE10(F) ZK2-ZSV□
下記の內(nèi)部回路と配線例を參照ください。NPNの場(chǎng)合は、灰（FUNC）と青（マイナス）間にスイッチを設(shè)け、スイッチONで吸著指令信號(hào)を出力し自動(dòng)制御になります。 ※PNPの場(chǎng)合は灰（FUNC）と茶（プラス）間にスイッチを設(shè)けます。■內(nèi)部回路と配線例?NPN 出力タイプ NPN オープンコレクタ 2 出力、最大印加電圧 26.4 V、最大負(fù)荷電流 80 mA 殘留電圧 2 V以下?PNP 出力タイプ PNPオープンコレクタ 2 出力、最大負(fù)荷電流 80 mA、殘留電圧 2 V以下
真空用圧力スイッチの設(shè)定については、真空用圧力スイッチはZSE10（F）の取扱説明書(shū)を、省エネ機(jī)能付真空用圧力スイッチはZK2-ZSV□の取扱説明書(shū)を參照してください。 取扱説明書(shū)はこちら ZSE10(F) ZK2-ZSV□
NPN仕様の場(chǎng)合は、青（DCマイナス）と灰（FUNC）間の接點(diǎn)をONすると、真空?qǐng)R力スイッチの主回路経由でOUT2より供給弁を開(kāi)く出力が出て、真空吸著になります。所定の真空度まで上がると主回路側(cè)でOUT2の出力が自動(dòng)的にOFFになり、供給弁は一旦閉じます。その狀態(tài)で真空保持しますが、真空度が低下し設(shè)定した圧力まで真空低下すると、再びOUT2が出力され供給弁を開(kāi)きます。吸著動(dòng)作は青と灰間の接點(diǎn)をOFFするまで続きます。破壊時(shí)は青と灰の間の接點(diǎn)をOFFにすると共に、白（破壊弁用入力）と青（DCマイナス）間の接點(diǎn)をONにします。真空保持のためZK2內(nèi)部にチェック弁がダブルでありますので、破壊弁を開(kāi)かないと真空破壊できません。■內(nèi)部回路と配線例?NPN 出力タイプ NPN オープンコレクタ 2 出力、最大印加電圧 26.4 V、最大負(fù)荷電流 80 mA 殘留電圧 2 V以下?PNP 出力タイプ PNPオープンコレクタ 2 出力、最大負(fù)荷電流 80 mA、殘留電圧 2 V以下
「 省エネ制御機(jī)能停止方法 」の資料を參照ください。 圧力スイッチの設(shè)定を変更することにより、省エネ制御（供給弁のON/OFF）を働かないようにすることができます。省エネ制御機(jī)能停止方法
本バルブはパイロット弁で、2個(gè)內(nèi)蔵された主弁（2ポート弁×2で、それぞれ供給弁、破壊弁と呼ぶ）を開(kāi)閉する「デュアル2ポートバルブ」になります。「供給弁自己保持/破壊弁連動(dòng)」の動(dòng)作は以下の通りです。【 初期狀態(tài) 】（工場(chǎng)出荷時(shí)）???供給弁：閉、 破壊弁：閉【 動(dòng)作1 】???供給用パイロット弁ON：パイロットエアで供給弁開(kāi)、供給用パイロット弁OFFしても、供給弁は開(kāi)狀態(tài)を保持（これを自己保持と稱します）【 動(dòng)作2 】???破壊用パイロット弁ON：パイロットエアで破壊弁開(kāi)、破壊弁が図の左方向に動(dòng)作することで、供給弁を閉位置に押し戻す（これを破壊弁連動(dòng)と稱します）※ 供給用パイロット弁の通電は、瞬時(shí)通電でも連続通電でもどちらも可能ですが、連続通電で使う場(chǎng)合は、破壊用パイロット弁をONする時(shí)には必ず同時(shí)に供給用パイロット弁はOFFにしてください。破壊弁が正常に動(dòng)作しない、供給弁がOFFしないなど、誤動(dòng)作の原因となります。
複數(shù)のパイロット弁を同時(shí)にON/OFFさせるだけの消費(fèi)電力や電流値が足りていれば、特に問(wèn)題はありません。ちなみに消費(fèi)電力は、ソレノイド１個(gè)當(dāng)たり 0.4W です（SYJバルブと同等）。
供給弁?破壊弁の組合せで、記號(hào)「K1」の（真空）供給用バルブは自己保持(ダブルSOL)型です。「K1」以外の制御弁はNC仕様で、切換え時(shí)（通電時(shí)）のみ動(dòng)作します。ZR115S1-K15MZ-Fの場(chǎng)合は、供給用パイロット弁にワンパルスで真空発生し続けます。真空停止用パイロット弁にワンパルスで、真空停止します。破壊弁は通電ON後の連続通電中は真空破壊し、通電OFFで真空破壊エアが停止します。それぞれの電磁弁への通電時(shí)間はPLC等の上位機(jī)器で設(shè)定してご使用ください。
PS（パイロット圧供給）ポートにも圧縮エアが入っているかを、ご確認(rèn)ください。ZRの電磁弁はパイロット操作方式なので、PS(パイロット圧供給）ポートに、0.25MPa～0.6MPaのエアを供給する必要があります。
ファンクションプレートは、バルブユニットの各供給ポートのエアを共有する場(chǎng)合に使用します。たとえば、エジェクタシステムのZRユニットでZR1-RV1付の場(chǎng)合は、供給エア（PV）とパイロットエア（PS）と破壊エア（PD）が連通しますので、PVポートのみの配管接続で使用可能です（PSとPDはプラグ止め）。それぞれのポートをどのような圧力の組合せで使い分けされるかにより、ファンクションプレートを選択していただく必要があります。
フィルタエレメントの品番は、「ZR1-FZ」です。組付け時(shí)は、フィルタガスケットがガスケット溝に入っていることを確認(rèn)してから行ってください。※エレメントが目詰まりすると、吸引力の低下や応答時(shí)間の遅れをまねきます。
VJシリーズの収斂に伴い、 2009年10月よりZRの搭載電磁弁をSYJ3000シリーズへ変更しました。（標(biāo)準(zhǔn)品の）ZRのメンテナンスでVJをSYJに変更の場(chǎng)合は、互換性がありますのでSYJバルブに交換可能です。しかしその際は、SYJに添付されているガスケットも一緒に交換してください。注）舊ZRのパイロット弁ガスケットは電磁弁３臺(tái)で１シート（ZRシリーズ専用）でした。現(xiàn)行のZRは電磁弁個(gè)々のガスケット（電磁弁付屬品）へ変更されました。ZRシリーズのバルブ変更資料は こちら
圧縮空気の供給により大流量ブローおよび、大流量バキュームが可能なエジェクタです。ブロー流量は供給空気量の4倍、バキューム流量は供給空気量の3倍になります。ZH-X185の用途例はこちら［製品特長(zhǎng)］
SMCで配管用のカップリングや継手の用意はしていません。お客様でご用意お願(yuàn)いします。配管はホース配管を前提にしています。一般的な市販ホース類の內(nèi)徑に適合していますのでホースを挿入のうえ、接続部をホースバンドで締めつけて留めてください。
ZH-X185のカタログに推奨するバルブの音速コンダクタンスと、推奨するバルブの參考シリーズを掲載しています。それぞれのバルブはZH-X185への圧力を保つため、各バキュームフローの空気消費(fèi)量の3倍の流量が流せるタイプとなります。カタログ
真空エジェクタ（ZH）のサプライポートに供給された圧縮エアは、エジェクタ?jī)?nèi)のノズル通過(guò)時(shí)に流速が高まります。この高速のエアがディフューザに流れ込む際に、ノズルとディフューザ間の周?chē)欷慰諝荬蛭贰⒄婵榨荸`ト側(cè)に真空が発生します。エジェクタ原理［動(dòng)畫(huà)］
ZHシリーズのSタイプは高真空タイプ、Lタイプは大流量タイプです。下記に掲載したZH10の型式と流量特性表をご參照ください。到達(dá)真空?qǐng)R力に選定記號(hào)S（-90kPa）とL（-48kpa/-66kPa）がありますが、ノズル徑には関係しません。真空ポートからの吸込流量がLタイプは多いため、漏れ量のあるワークを吸著する場(chǎng)合、Lタイプの方が高い真空?qǐng)R力を得られることがあります。漏れ量と真空?qǐng)R力の関係を流量特性表で確認(rèn)して頂き、より真空高い真空?qǐng)R力を得られるタイプを選択下さい。（例：漏れ量が20L/min(ANR)では、ZH10□SAの真空?qǐng)R力は-20kPa、ZH10□LAの真空?qǐng)R力は約-32kPaでLタイプの方が高い真空?qǐng)R力）詳細(xì)はZHカタログをご參照ください。
ZH直接配管形?①排気が集合配管の場(chǎng)合、他の排気に影響されると真空度が上がりません。 排気抵抗にならないような大きな排気管をご使用ください。 ②排気がサイレンサの場(chǎng)合、吸音材の汚れを確認(rèn)して下さい。 またはサイズの見(jiàn)直しをご検討ください。ZHボックス形?①吸音材が汚れていませんか。吸音材の交換をお願(yuàn)いします。ZH共通?①バキュームパッド側(cè)からの異物の入り込みはありませんか。異物（固形物、水滴など）が 內(nèi)部構(gòu)造のディフューザにかみ込んで排気特性を阻害している可能性があります。 除去とともにバキューム側(cè)にサクションフィルタの設(shè)置をお願(yuàn)いします。 ②ZHへの供給圧力が低下していないか確認(rèn)してください。
ZH直接配管形のノズル徑は、［ZH10D］のように樹(shù)脂ボディに成型しています。ZHボックス形のノズル徑は、［ZH10B］のように樹(shù)脂ボディに印字しています。
ZH直接配管形は、ZHの真ん中のリング部（ディフューザ部）の色で見(jiàn)分けられます。Sタイプが茶色でLタイプが黒色（舊タイプはSタイプが白色でLタイプが黒色）になります。ZHボックス形は、到達(dá)真空?qǐng)R力のSかLをレーザーマーキングで印字しています（舊タイプはインクで印字）。
真空パッドの選定方法を下記に示します。1）ワークのバランスを十分に考慮し、吸著位置とパッドの個(gè)數(shù)および使用可能なパッドの徑 （またはパッドの面積）を明確にします。2）明確にした吸著面積（パッドの面積×個(gè)數(shù)）と真空?qǐng)Rから理論リフト力を求め、実際の吊り上げ方法や 移動(dòng)條件による安全率を考慮したリフト力を求めます。3）ワークの質(zhì)量とリフト力を比較し、リフト力 ＞ ワーク質(zhì)量であるために必要かつ十分なパッド徑（パッド面積）を 決定します。4）使用條件やワークの形狀?材質(zhì)からパッドの形狀と材質(zhì)、バッファの有無(wú)を決定します。5）真空パッドは、真空保持を行えるように設(shè)計(jì)しておりません。6）実機(jī)にて吸著テスト（確認(rèn)）を行い、使用可否の判斷を行って下さい。これらの手順は、一般的な真空パッドにおける決定手順を示していますので、全てに適応される物ではありません。最終的にはお客様の実機(jī)にてテストを行い、その結(jié)果に基づいて吸著條件、使用パッドを決定願(yuàn)います。
真空パッドのリフト力は、計(jì)算式及び理論リフト力表から求める事が出來(lái)ます。?計(jì)算式による方法 W = P×S×0.1×1/t W：リフト力（N） P：真空?qǐng)R力（Kpa） S：パッドの面積（㎝2） t ：安全率 水平吊り上げ：4以上 垂直吊り上げ：8以上?理論リフト力表による方法 パッド徑、真空?qǐng)R力より安全率を含まない理論リフト力を求めます。 次に、理論リフト力を安全率tで割り、リフト力を求めます。 リフト力=理論リフト力÷t 理論リフト力表（理論リフト力＝P×S×0.1）は下記の通りです。
真空パッドには、［平形(リブ付)]、［深形］、［ベロウ形］、［薄形(リブ付)］、［長(zhǎng)円形］等があります。ワークおよび使用環(huán)境に対して最適な形狀を選択してください。形狀別の用途を下記に記します。?平形パッド：ワーク表面が平面で、変形等のない場(chǎng)合。?平形リブ付パッド：ワークが変形しやすい場(chǎng)合や、ワークの離脫を確実に行いたい場(chǎng)合。?深形パッド：ワーク形狀が曲面の場(chǎng)合。?ベロウ形パッド：バッファを取り付けるスペースがない場(chǎng)合や、ワーク吸著面が斜めになっている場(chǎng)合。?長(zhǎng)円形パッド：吸著面の少ないワークや、ワークが長(zhǎng)いもので位置決めを確実に行いたい場(chǎng)合。?首振りパッド：吸著面が水平でないワーク。?高荷重パッド：重量物のワーク。?導(dǎo)電性パッド：靜電気対策の一つとして、抵抗率を下げたゴムを使用する。帯電防止用。※バッフ?。亥铹`ク高さが均一でない場(chǎng)合や、ワークへの緩衝が必要な場(chǎng)合。 真空パッドバリエーションは こちら
真空パッド（ZPシリーズ）の材質(zhì)と搬送ワーク例を以下に示します。また、ゴム材質(zhì)と特性表?ゴム材質(zhì)識(shí)別表も參照お願(yuàn)います。?NBR：基本的なパッド材質(zhì)（段ボール?ベニヤ板?鉄板?その他一般的ワーク）?シリコーンゴム：ワークに馴染みやすい材質(zhì)（半導(dǎo)體?金型成型品取出?薄物ワーク?食品関係）?ウレタンゴム：耐摩耗性に優(yōu)れた材質(zhì)（段ボール?べニア板?鉄板）?FKM：耐薬品性に優(yōu)れた材質(zhì)（ベンゼン、トルエン、有機(jī)酸、NBRからの耐オゾン）?導(dǎo)電性NBR：半導(dǎo)體の一般ワーク（靜電気対策）?導(dǎo)電性シリコーンゴム：半導(dǎo)體の一般ワーク（靜電気対策）
真空パッドはゴムで製作してあり、ワークに直接觸れるため、何らかの吸著跡は必ず存在します。＜吸著により考えられる跡＞1.吸著時(shí)のワーク変形（吸著力）による跡2.パッドの材料であるゴム材料に含まれる成分が、ワークに移行したためによる跡3.ワーク表面の凹凸に、パッドの材料であるゴムが磨耗(殘留)し殘る跡4.周?chē)飙h(huán)境における埃などが、パッドまたはワークに付著したことによる跡＜対策＞?真空?qǐng)R力を下げる。（リフト力が足りない場(chǎng)合はパッド數(shù)量を増やす。）?パッド中心部空間（面積）が少ないパッドを選定する。?材質(zhì)を吸著跡対策NBRに変更をする。?ZP2シリーズのフッ素樹(shù)脂焼付パッド、もしくは樹(shù)脂アタッチメントを使用する。?吸著跡は殘りますが、パッド材質(zhì)をシリコンゴム?ウレタンゴム(ゴム色：白?茶色)にすることにより、 吸著跡が目立たなくなる可能性はあります。使用可否判斷は、実機(jī)にて確認(rèn)をお願(yuàn)い致します。吸著跡対策パッドZP2シリーズは こちら
真空パッドに、年數(shù)?使用回?cái)?shù)等（壽命）の規(guī)定はございません。真空パッドは使用していきますと吸著面が摩耗し、外形部が徐々に小さくなっていきます。パッド徑が小さくなる事によりリフト力は減少していきます。真空パッドの交換時(shí)期を推測(cè)する事は非常に困難です。吸著物の表面粗さ、使用環(huán)境（溫度、濕度、オゾン、溶剤等）、使用條件（真空?qǐng)R力、ワーク重量、真空パッドの吸著物への押付け力、バッファの有無(wú)）等に影響されるためです。（ベロウ形においては、屈曲部のヘタリ、摩耗、ゴムの貼り付きが発生する場(chǎng)合があります。）従って、真空パッドの交換時(shí)期は初回に使用頂いた狀況下において、真空パッドの交換時(shí)期を判斷願(yuàn)います。注）使用條件?使用環(huán)境により、パッド接続部が緩む場(chǎng)合があります。定期的にメンテナンスを行って下さい。
作動(dòng)原理：ワークに非接觸狀態(tài)ではバルブが閉じるので、吸込流路が固定絞り徑だけになります。この時(shí)、固定絞り分のエアが吸い込まれます。ワークに接觸してバルブが開(kāi)き、吸著を開(kāi)始します。パッド複數(shù)個(gè)使用などの吸著で、未吸著のパッドがあっても真空?qǐng)R力の低下を抑制します。
ZPシリーズカタログの最後に、「真空パッド/部品」「交換部品/パッド単體」で掲載されています。たとえば、ZPT10UNK20-06-A10のパッド単體の型式は、ZP10UNあるいはZP10UN-X19（ロックリングなし）になります。※アダプタやバッファの交換部品品番も、ZPシリーズカタログの最後に掲載されています。 ZPシリーズのカタログは こちら注）安全上のご注意(保証期間)は こちら
同一ライン內(nèi)で真空?qǐng)R?正圧の共用はできません。流れ方向は製品に表示された方向のみとなります。例えば、真空吸著?破壊を同一ライン內(nèi)で使用しますと、真空吸著で捕捉した固形粒子が真空破壊時(shí)に再飛散します。
可能です。交換エレメント品番と交換手順は、カタログをご參照ください。ZFCシリーズのカタログは こちら
処理流量は容器（口徑）で決まるため、ろ過(guò)度を変えても數(shù)値は同じです。
